离子镀膜机的工作原理

   科技的不断研发，让行业内的制造工艺水平也在不断完善。相比过去的疑难杂症，随着时间的迁移，已经慢慢得到解决。同时，越来越多的产品随着人们需求的增多，在科技进步的基础上研发诞生。而今天我们所要讲的就是离子镀膜机。

   离子镀膜机的原理其实就是在真空室内利用气体放电或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质粒子轰击作用的同时，将蒸发物或反应物沉积在基片上。离子镀把辉光放电现象、等离子体技术和真空蒸发三者有机结合起来，不仅能明显地改进了膜质量，而且还扩大了薄膜的应用范围。其优点是薄膜附着力强，绕射性好，膜材广泛等。D.M.首次提出离子镀原理，起工作过程是：先将真空室抽至4×10（-3）帕以上的真空度，再接通高压电源，在蒸发源与基片之间建立一个低压气体放电的低温等离子区。基片电极接上5KV直流负高压，从而形成辉光放电阴极。辉光放电区产生的惰性气体离子进入阴极暗区被电场加速并轰击基片表面，对其进行清洗。然后进入镀膜过程，加热使镀料气化，起原子进入等离子区，与惰性气体离子及电子发生碰撞，少部分产生离化。离化后的离子及气体离子以较高能量轰击镀层表面，致使膜层质量得到改善。

多弧离子真空镀膜机的电弧蒸发

CCZK-ION多弧离子真空镀膜机

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