中文版英文版
免费电话:400-882-5225
新闻中心
当前位置:首页> 新闻中心>蒸发真空电镀机蒸发过程中的真空条件

蒸发真空电镀机蒸发过程中的真空条件

   真空电镀机的真空室内的蒸汽分子的平均自由程大于蒸发源与基片的距离时,就可以获得充分的真空条件。因此,需要将残余气体的平均自由程增加,然后减少蒸汽分子与残余气体分子的碰撞几率,把真空室抽成高真空是非常必要的。
    在用真空电镀机真空镀膜过程中,对于真空度的要求不是越高越好,因为当真空室内的真空度超过10-6Pa时,就需要对真空系统进行烘烤去气才能达到。而烘烤会污染基片,所以会低于这个真空度下制膜,成膜的质量也不会比超高真空制备的膜层差。这在抽真空的时候是需要考虑的问题,千万不要忽视。

如何对真空电镀机的工作室进行清理

CCZK-EL电阻蒸发真空镀膜机

CCZK-EL电阻蒸发真空镀膜机


上一篇:离子镀膜机是一种新型的真空电镀机 下一篇:镀膜机厂家谈离子镀技术的应用





电话:0086-513-81907983
手机:18668736182
江苏省南通市通州湾示范区大豫镇江新路16号
查看百度地图
001@ccvacuum.com
Skype:ccvacuum
Copyright © 江苏驰诚科技发展有限公司 ALL Rights Reserveds  备案号: 苏ICP备2024136086号-1 浙公网安备33030302000888号       网站地图 | 联系我们
返回
上页