离子镀膜机的离子镀相比蒸发镀和溅射镀的优点

目前，在真空镀膜领域，较为常见的有离子镀、蒸发镀和溅射镀三种镀膜方法。今天，就由镀膜机厂家给大家讲解下离子镀相较蒸发镀和溅射镀的特点。
    1、附着能力强、镀层不易脱落。用离子镀膜机进行离子镀时，基材的表面受到离子的轰击，不断被清洗，提高了基片表面的附着力。同时，溅射也提高了基片表面的粗糙度。还有一个原因是离子轰击基材时携带的动能在基片表面转化成了热能，产生自加热效应，提高了基片表面的层组织的结晶性能，促进化学反应和扩散作用。
    2、绕射性好。在高压强下，膜材被电离，电离出的离子或分子在到达基片的过程中被数次碰撞，最后溅射到基片的周围。然后在电场的作用下沉积在负面=偏压的基片上。
    3、镀层质量高。在沉积过程中不断受到阳离子的轰击，使得膜层更致密。
    4、可镀材料范围广。
    5、沉积速率高，成膜快，可镀制厚膜。