真空镀的发展前景

     真空镀膜机是用于真空镀的设备。真空镀一般包括有溅射镀、蒸镀和离子镀三种类型，具体做法都是在真空条件下，通过采用蒸馏或者溅射等方式来沉积薄膜在塑件的表面，这样的方式可以得到非常薄的表面镀层，具有速度快的突出优点，一般用来作较高档产品的功 能性镀层。传统的水电镀，伴随着高污染、高成本，已经慢慢逐步被市场所淘汰，而新兴的真空镀技术，由于所有镀 层材料是在真空环境下通过等离子体沉积在工件表面，不存在溶液污染，对环境零污染；另外真空镀的真空涂层相比传统水电镀致密度、耐腐蚀性能大大改善，沉积的镀层厚度更是远远小于常规湿法电镀镀层，既节约材料，同时降低了 成本；还有传统水电镀无法比拟的一点是真空镀沉积的材料广泛，可沉积铝、钛、锆等传统水电镀无法沉积的低电位 金属，若是加以反应气体和合金靶材更是可以沉积从合金到陶瓷甚至是金刚石的涂层，还可根据需要设计涂层体系。 一点美中不足的是真空镀的镀层附着力比水电镀差很多，正因为如此，水电镀还未彻底消失，不过相信不久的将来， 这一缺点也会被修正，到时候真空镀会彻底取代水电镀，因此真空镀的发展前景会非常光明。 

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